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極紫外光刻新技術問世 能大幅提高能源效率并降低半導體制造成本

2024-08-02 07:43:40

每經AI快訊，據日本沖繩科學技術大學院大學（OIST）官網最新報告，該校設計了一種極紫外（EUV）光刻技術，超越了半導體制造業(yè)的標準界限?；诖嗽O計的光刻設備可采用更小的EUV光源，其功耗還不到傳統EUV光刻機的十分之一，從而降低成本并大幅提高機器的可靠性和使用壽命。（科技日報）

責編 王曉波

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